原子層沉積鍍膜系統(tǒng)1.ALD (傳統(tǒng)的熱原子層沉積); 2.PEALD (等離子增強(qiáng)原子層沉積); 3.Powder ALD (粉末樣品的原子層沉積);
臺(tái)式磁控濺射鍍膜儀 該系統(tǒng)可以作為以下功能裝置: 1,研發(fā)級(jí)R&D鍍膜設(shè)備,性能優(yōu)異 2,具備所有研發(fā)級(jí)別的鍍膜要求 3,高效的沉積速率,鍍膜時(shí)間快 4, 實(shí)驗(yàn)室中培訓(xùn)的工具
金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積鍍膜系統(tǒng)(MOCVD) 其反應(yīng)器的設(shè)計(jì)可以根據(jù)工藝的需要很容易提升到滿足大直徑晶片生產(chǎn)的需要。我們也能為客戶設(shè)計(jì)以滿足客戶特殊工藝和應(yīng)用的需要。系統(tǒng)部件包括:反應(yīng)器、氣體傳輸系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)和尾氣處理系統(tǒng)。
超高真空多功能薄膜制備系統(tǒng)此系統(tǒng)可以配置多種沉積方式(預(yù)留各種功能接口),高度靈活,非常適合多種沉積模式的科研. 高真空條件沉積模式(使用機(jī)械泵+分子泵,或冷凝泵)。多種組合沉積模式,同一腔體實(shí)現(xiàn)多種功能沉積方式
有機(jī)分子束沉積鍍膜系統(tǒng) 電子束蒸發(fā)系統(tǒng)、熱蒸發(fā)系統(tǒng)、超高真空蒸發(fā)系統(tǒng)、分子束外延MBE、有機(jī)分子束沉積OMBD、等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相淀積系統(tǒng)PECVD/ICP Etcher、電子回旋共振等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積、離子泵等
在線量產(chǎn)型磁控濺射鍍膜系統(tǒng) 高轉(zhuǎn)換效率 大容量吸收,電池可靠性長(zhǎng)達(dá)10年 抗輻射
離子束刻蝕設(shè)備 離子拋光 離子清洗 等離子體灰化 等離子體氧化、氮化 表面改性 反應(yīng)刻蝕 生物醫(yī)藥 傳感器
PECVD+RIE等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備 該系統(tǒng)中的PECVD可以沉積高質(zhì)量SiO2薄膜、Si3N4薄膜、類金剛石薄膜、硬質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等。標(biāo)準(zhǔn)配置射頻(RF),可選用空陰*密度等離子體(HCD)源、感應(yīng)耦合等離子體(ICP)源。大沉積尺寸為8英寸。
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