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硅穿孔工藝設(shè)備-光刻機(jī) 晶圓和晶圓之間制作垂直導(dǎo)通,實(shí)現(xiàn)芯片之間互連的新技術(shù)。能夠使芯片在三維方向堆疊的密度大,芯片之間的互連線短,外形尺寸小,并且大大改善芯片速度和低功耗的性能,使目前電子封裝技術(shù)中引人注目的新技術(shù)。
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無掩膜曝光機(jī)-光刻機(jī) 美國(guó)IMP(Intelligent Micro Patterning,LLC)公司憑借多年的光刻設(shè)備生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)和多項(xiàng)無掩模曝光技術(shù),已成為無掩模紫外光刻領(lǐng)域的。國(guó)內(nèi)參考用戶較多!
勻膠機(jī)、旋涂?jī)x(德國(guó)產(chǎn)、高性能)SPIN150i單片勻膠機(jī)/旋涂?jī)x具有廣泛應(yīng)用,包括 甩干,沖洗,清潔,涂膠。臺(tái)式設(shè)計(jì),無縫全塑料材質(zhì), 有天然聚丙烯(NPP)和聚四氟乙烯材質(zhì)(PTFE)可選。有各種吸盤,適合樣品襯底5mm--?160mm (or 6”) or 4“x4“. 更大尺寸均有?。?/p>
顯影機(jī)-勻膠機(jī) 顯影機(jī) /濕法刻蝕機(jī)德國(guó)品質(zhì)(配有防污染內(nèi)襯,標(biāo)配兩個(gè)大小吸盤,性能優(yōu)于美國(guó)同類品牌) 高精度,高可靠性,耐腐蝕,來源德國(guó),多程序控制。
光刻機(jī)/紫外曝光機(jī) 該公司是目前世界上早將光刻機(jī)商品化的公司之一,擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力;并且其設(shè)備被眾多著名企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用;以優(yōu)秀的技術(shù)、精妙的工藝和良好的服務(wù),贏得了用戶的青睞。
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