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氣溶膠粒徑譜儀粉塵發(fā)生器采用均勻的氙燈白光源，氣溶膠粒子流經(jīng)過光源，產(chǎn)生光散射效應，90度散射角進行檢測，軟件采用理論計算，得到粒徑大小的體積分布和個數(shù)分布，粒子計數(shù)和粒徑分布可以同時得到，互不干擾，這是高精度氣溶膠粒徑譜儀的重要要求。發(fā)生器技術解決了消除邊緣效應和重疊粒子計數(shù)，使高濃度氣溶膠粒徑測量和計數(shù)達到高精度測量。將粉末樣品裝入圓柱型存儲容器中，通過活塞輸送到旋轉刷，旋轉刷將準確輸送一定量的樣品到擴散頭，在擴散頭處，通過噴嘴的加速，氣流將被加速到180m/s的高速度，...

多功能磁控濺射儀采用高電壓二極直流濺射方式沉積薄膜，這種設計優(yōu)點是結構簡單，但是缺點是容易造成能量集中，對于樣品有明顯的溫升效應的，采用磁控濺射手段，通過磁控陰極+直流電源方式對樣品噴金處理，有較低的離子轟擊損傷和溫升效應；另外還有操作簡單，觸控面板界面，一鍵式操作。主要特點：1，側面雙開門結構，便于裝片。2，*設計預濺射擋板，工藝控制簡便，節(jié)省時間。3，充氣和抽氣系統(tǒng)，有效鍍膜區(qū)寬。4，脈沖偏壓非平衡對靶中頻磁控濺射技術，鍍膜質(zhì)量穩(wěn)定。5，采用PLC工控機控制，可實現(xiàn)設備和...

磁控濺射鍍膜由真空鍍膜系統(tǒng)和真空手套箱系統(tǒng)集成而成，可在高真空蒸鍍腔室中完成薄膜蒸鍍，并在手套箱高純惰性氣體氛圍下進行樣品的存放、制備以及蒸鍍后樣品的檢測。蒸發(fā)鍍膜與手套箱組合，實現(xiàn)蒸鍍、封裝、測試等工藝全封閉制作，使整個薄膜生長和器件制備過程高度集成在一個完整的可控環(huán)境氛圍的系統(tǒng)中，消除有機大面積電路制備過程中大氣環(huán)境中不穩(wěn)定因素影響，保障了高性能、大面積有機光電器件和電路的制備，用于制備各種金屬膜、半導體膜、介質(zhì)膜、磁控膜、光學膜、超導膜、傳感膜以及各種特殊需求的功能薄膜...

球磨測厚儀可用于各行各業(yè)中各種塑料薄膜、橡膠、木材、紙板、金屬薄板等厚度的測量，主要用于金屬軋制行業(yè)各個領域?qū)ιa(chǎn)線上的產(chǎn)品，如鋼帶、銅帶、鋁帶、鋁箔等進行動態(tài)狀態(tài)下的厚度測量，可輸出厚度信號到系統(tǒng)，以實現(xiàn)厚度的閉環(huán)調(diào)節(jié)，具有不接觸被測物體、連續(xù)、快速、準確測量等優(yōu)點。儀器簡單的球坑法是快速獲得所有涂層厚度的有效方法，適用單層和多層膜的涂層，利用X射線穿透被測材料時，X射線的強度的變化與材料的厚度相關的特性，從而測定材料的厚度，是一種非接觸式的動態(tài)計量儀器，它以PLC和工業(yè)計...

深能級瞬態(tài)譜儀通過監(jiān)測半導體結在不同溫度下的脈沖產(chǎn)生的電容、電流或電荷瞬變，可產(chǎn)生每個深度級別的光譜，每個深能級都有一個峰值。峰的高度與陷阱密度成正比，其符號允許區(qū)分少數(shù)和多數(shù)陷阱，并且溫度軸上的峰的位置導致確定熱發(fā)射和俘獲（活化能和橫截面）的基本參數(shù)，該方法的應用導致了新現(xiàn)象的發(fā)現(xiàn)，并為理解半導體器件的材料加工提供了*的工具。儀器是半導體領域研究和檢測半導體雜質(zhì)、缺陷深能級、界面態(tài)等的重要技術手段，測試根據(jù)半導體P-N結、金-半接觸結構肖特基結的瞬態(tài)電容技術和深能級瞬態(tài)譜的...

皮可安培計測試需要把測試電壓或強制電壓施加到器件的輸入端，并測量導致的任何泄漏電流和偏移電流，這經(jīng)常是在1pA或更低的級別進行的。低功耗測量電路與緩慢而昂貴的商品化自動測試儀形成了鮮明對比，這種電路能強制很寬的測試電壓范圍并提供快速穩(wěn)定，使器件測試吞吐速度升高。表面貼裝元件的廣泛使用使它的印制電路板空間要求降低，并使多個測量電路的封裝能靠近測試夾具。該電路包含強制電壓緩沖器/放大器、浮動軌電源、IVC（電流至電壓轉換器），向待測器件施加強制電壓會引發(fā)泄漏電流，電路把該泄漏電流...