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深能級(jí)瞬態(tài)譜儀集成多種自動(dòng)的測(cè)量模式及全面的數(shù)據(jù)分析，可以確定雜質(zhì)的類型、含量以及隨深度的分布，也可用于光伏太陽(yáng)能電池領(lǐng)域中，分析少子壽命和轉(zhuǎn)化效率衰減的關(guān)鍵性雜質(zhì)元素和雜質(zhì)元素的晶格占位，確定是何種摻雜元素和何種元素占位影響少子壽命。該儀器測(cè)量界面態(tài)速度快，精度高，是生產(chǎn)和科研中可廣為應(yīng)用的測(cè)試技術(shù)。隨著電腦技術(shù)的發(fā)展，使得在短時(shí)間內(nèi)進(jìn)行復(fù)雜計(jì)算成為可能，在純指數(shù)發(fā)射過(guò)程模型的基礎(chǔ)上，用各種數(shù)學(xué)模型分析測(cè)量到的瞬態(tài)過(guò)程，如傅里葉轉(zhuǎn)換、拉普拉斯轉(zhuǎn)換、多指數(shù)瞬態(tài)擬合、等溫瞬態(tài)光...

快速動(dòng)力學(xué)停流裝置是當(dāng)今市場(chǎng)上好的多路混合停流裝置，淬滅裝置，快速混合溫度突變等裝置系統(tǒng)，杰出的產(chǎn)品設(shè)計(jì)解決您快速動(dòng)力學(xué)應(yīng)用中的所有需要?？焖賱?dòng)力學(xué)停流裝置節(jié)省樣品，自動(dòng)濃度依賴性實(shí)驗(yàn)研究以及兩路混合實(shí)驗(yàn)研究，適用所有光學(xué)模式：吸收，熒光，圓二色，熒光各向異性光譜等測(cè)定比色池多樣性?？焖賱?dòng)力學(xué)停流裝置的流量控制，可擴(kuò)展溫度適用范圍，可更換SFM附件，應(yīng)用于：化學(xué)淬滅，光學(xué)淬滅以及光學(xué)延時(shí)，冷凍淬滅，X-射線散射停流，中子色散停流，EPR停流，低溫停流，自動(dòng)滴定，停流電導(dǎo)，快速...

皮可安培計(jì)的核心優(yōu)勢(shì)及產(chǎn)品特點(diǎn)皮可安培計(jì)的測(cè)試需要把測(cè)試電壓或強(qiáng)制電壓施加到器件的輸入端，并測(cè)量導(dǎo)致的任何泄漏電流和偏移電流，這經(jīng)常是在1pA或更低的級(jí)別進(jìn)行的，使器件測(cè)試吞吐速度達(dá)到很高。表面貼裝元件的廣泛使用使它的印制電路板空間要求降到了低，并使多個(gè)測(cè)量電路的封裝能靠近測(cè)試夾具，可選帶上下限報(bào)警控制功能，用軸承支持活動(dòng)部分的儀表，不可避免地會(huì)存在摩擦而產(chǎn)生的摩擦力矩，它會(huì)在不同程度上阻礙活動(dòng)部分的運(yùn)動(dòng)，使活動(dòng)部分停在偏離真實(shí)平衡位置的地方，致使儀表指示產(chǎn)生誤差。皮可安培計(jì)...

表面光電壓譜保證良好的波長(zhǎng)準(zhǔn)確度和重復(fù)性表面光電壓譜一體整合，空間更緊湊，操作更簡(jiǎn)便；高精度，自動(dòng)化，數(shù)字化，讓實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)更準(zhǔn)確；高均勻可調(diào)節(jié)光纖光源，特別為光電極輻照設(shè)計(jì)。半導(dǎo)體材料的光生電壓性能的測(cè)試分析，可開(kāi)展光催化等方面的機(jī)理研究，應(yīng)用于太陽(yáng)能電池、光解水制氫等方面的研究，研究光生電荷的性質(zhì)，如：光生電荷擴(kuò)散方向；解析光生電荷屬性等。表面光電壓譜模組化設(shè)計(jì)，緊扣用戶需求，經(jīng)濟(jì)靈活，適用面廣，升級(jí)、改造、維護(hù)均很方便，可選大功率鹵鎢燈及大功率氙燈光源，也可使用用戶已有或的...

氣溶膠粒徑譜儀粉塵發(fā)生器在質(zhì)量控制中有著廣泛應(yīng)用氣溶膠粒徑譜儀粉塵發(fā)生器基于單一顆粒的光散射的原理測(cè)量顆粒粒徑分布，而無(wú)需假設(shè)特定分布，例如對(duì)數(shù)正態(tài)粒徑分布，該方法將高敏感性、高準(zhǔn)確性和高速測(cè)量結(jié)合起來(lái)，并實(shí)現(xiàn)對(duì)高濃度氣溶膠顆粒的粒徑分布的測(cè)量。氣溶膠粒徑譜儀粉塵發(fā)生器采用近前向散射技術(shù)，使得顆粒形狀和折射率對(duì)測(cè)量結(jié)果的影響降至低，并專為高濃度氣溶膠顆粒的測(cè)量進(jìn)行了設(shè)計(jì)，技術(shù)上的解決解決方案就是通過(guò)空氣動(dòng)力學(xué)及光學(xué)聚焦產(chǎn)生一個(gè)足夠小的測(cè)量體積，小的測(cè)量體積能夠有效降低重疊誤差...

激光直寫(xiě)提高工作量和用戶安全程度激光直寫(xiě)光刻機(jī)是桌面型高分辨率激光光刻系統(tǒng)，它通過(guò)固定連續(xù)的375nm或405nm紫外光源在光刻膠或紫外敏感膠中直接刻劃獲得微納結(jié)構(gòu)，直寫(xiě)面積高達(dá)4英寸，特征尺寸（寬度）可達(dá)1微米。激光直寫(xiě)光刻機(jī)提供豎直和掃描直寫(xiě)模式，確保直接軌跡偏離小于100nm，具有電動(dòng)光學(xué)聚焦系統(tǒng)，提供快速的聚焦功能，從而適合各種厚度襯底的要求，并具有晶圓裝載和卸載系統(tǒng)裝備到襯底室供客戶選配，增強(qiáng)清潔程度，提高工作量和用戶安全程度。激光直寫(xiě)不僅具有無(wú)掩模板直寫(xiě)系統(tǒng)的靈活...