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多功能磁控濺射鍍膜儀

簡要描述：多功能磁控濺射鍍膜儀(濺射、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā))
多種薄膜沉積設(shè)備，PECVD、ALD、PLD、MBE、磁控濺射、電子束蒸發(fā)、熱蒸發(fā)等。

  • 產(chǎn)品型號：
  • 廠商性質(zhì)：代理商
  • 更新時間：2024-08-23
  • 訪  問  量：3556

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多功能磁控濺射鍍膜儀(濺射、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā))

技術(shù)參數(shù)

腔體尺寸: ?300mm,400mm高；
泵體:260l/s Turbo泵,含有泵前過濾膜；
蒸發(fā)方式: 用戶可選擇熱蒸發(fā)(boat evaporation or crucible), 電子束蒸發(fā)或濺射蒸發(fā)；
樣品夾具: 多類型,有rotation, heating, cooling, biasing；
樣品尺寸可到?250mm,或者多個小樣品；

設(shè)備大小:一般 495 X 555 X 1302毫米；


多功能磁控濺射鍍膜儀(濺射、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā))

主要特點
此系統(tǒng)包含大多數(shù)的真空薄膜鍍層技術(shù): 熱蒸發(fā)(boat evaporation or crucible)，電子束蒸發(fā)，濺射沉積。
這樣我們在一臺設(shè)備上可以靈活運用多種膜生長技術(shù),針對各種不同大小和形狀的樣品,非常方便切換沉積模式。
腔體的開放式設(shè)計,使得樣品大小從幾毫米到250毫米均可鍍層。樣品夾具可以輕松固定多個樣品并同時鍍膜。此系統(tǒng)真空腔內(nèi)連接一個300mm寬的快速通道門,可以非常方便和快速地切換樣品和靶源。這對于薄膜制備研究機(jī)構(gòu),面對多種材料增加或改變沉積方式,轉(zhuǎn)換起來非常方便,并沒有任何空間限制。
多功能磁控濺射鍍膜儀
此系統(tǒng)為模塊式設(shè)計,可以針對用戶的具體應(yīng)用來訂制設(shè)計結(jié)構(gòu)。

儀器介紹
在所有的小型高真空鍍膜設(shè)備中,此設(shè)備功能強(qiáng)大,性能價格比非常好。
鍍膜方式包含了熱蒸發(fā),電子束蒸發(fā)和磁控濺射沉積。
由于它的模塊化設(shè)計,使得多數(shù)研發(fā)人員用起來非常方便,針對各種樣品易于轉(zhuǎn)換沉積條件,是研究人員不可獲缺的鍍膜工具!


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