狹縫擠出式涂布機(jī)沉積速率高,試驗(yàn)周期短
更新時(shí)間:2022-04-14 點(diǎn)擊次數(shù):726
狹縫擠出式涂布機(jī)是一種利用激光對(duì)物體進(jìn)行轟擊,然后將轟擊出來的物質(zhì)沉淀在不同的襯底上,得到沉淀或者薄膜的一種手段。
歷史背景:
早于1916年,愛因斯坦(AlbertEinstein)已提出受激發(fā)射作用的假設(shè)??墒?,首部以紅寶石棒為產(chǎn)生激光媒介的激光器,卻要到1960年,才由梅曼(TheodoreH.Maiman)在休斯實(shí)驗(yàn)研究所建造出來。總共相隔了44年。使用激光來熔化物料的歷史,要追溯到1962年,布里奇(Breech)與克羅斯(Cross)利用紅寶石激光器,汽化與激發(fā)固體表面的原子。三年后,史密斯(Smith)與特納(Turner)利用紅寶石激光器沉積薄膜,視為脈沖激光沉積技術(shù)發(fā)展的源頭。
涉及高能量脈沖輻射沖擊固體靶時(shí),激光與物質(zhì)之間的所有物理相互作用,亦包括等離子羽狀物的形成,其后已熔化的物質(zhì)通過等離子羽狀物到達(dá)已加熱的基片表面的轉(zhuǎn)移,及最后的膜生成過程。
狹縫擠出式涂布機(jī)主要優(yōu)點(diǎn):
1.易獲得期望化學(xué)計(jì)量比的多組分薄膜,即具有良好的保成分性。
2.沉積速率高,試驗(yàn)周期短,襯底溫度要求低,制備的薄膜均勻。
3.工藝參數(shù)任意調(diào)節(jié),對(duì)靶材的種類沒有限制。
4.發(fā)展?jié)摿薮?,具有極大的兼容性。
5.便于清潔處理,可以制備多種薄膜材料。